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光行天下 -> SYNOPSYS -> SYNOPSYS 光學設計軟件課程七十七：紫外光刻鏡頭設計 [點此返回論壇查看本帖完整版本]

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小火龍果

2024-07-24 10:04

SYNOPSYS 光學設計軟件課程七十七：紫外光刻鏡頭設計

一.光刻技術簡介

光刻是在集成電路制造過程中非常重要的步驟，是制造芯片的核心設備。
芯片的復雜細微三維結構就是通過光刻機把掩膜的圖形轉印到光刻膠上，再通過刻蝕工藝轉移到硅片上。

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二.光刻鏡頭的概述

整個集成電路制造過程中，光刻的步驟需要重復幾十次。
光刻技術水平限制了集成電路性能提升和關鍵尺寸的進一步減小。
光刻工藝的核心是對準和曝光，都是通過光刻鏡頭實現的。