| infotek | 2024-08-20 07:55 |
高NA物鏡聚焦的分析高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析非常方便。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。  建模任務(wù)  概觀  光線追跡仿真 •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 •點(diǎn)擊Go！ •獲得3D光線追跡結(jié)果。  光線追跡仿真 •然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為仿真引擎。 •單擊Go！ •結(jié)果，獲得點(diǎn)列圖（2D光線追跡結(jié)果）。  場(chǎng)追跡仿真 •切換到場(chǎng)追跡并選擇“第二代場(chǎng)追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為仿真引擎。 •單擊Go！  場(chǎng)追跡結(jié)果（攝像機(jī)探測(cè)器） •上圖只顯示整合了Ex和Ey場(chǎng)分量的強(qiáng)度。 •下圖顯示整合了Ex，Ey和Ez分量的強(qiáng)度。 Ez分量：由于在高NA情況下相對(duì)較大的Ez分量，可以看到明顯的不對(duì)稱性。 | |