| mark_chen |
2025-01-18 20:08 |
透鏡加工技術(shù)交流
使用半導(dǎo)體光刻工藝量產(chǎn)平面透鏡的詳細步驟: zB%~=@Q^6 一、設(shè)計階段 $wM..ee 首先,根據(jù)平面透鏡的預(yù)期用途(如成像、聚焦等),使用光學(xué)設(shè)計軟件(如 Zemax、Code V 等)來確定透鏡的光學(xué)參數(shù)。這些參數(shù)包括焦距、數(shù)值孔徑、工作波長范圍等。例如,對于一個用于可見光成像的平面透鏡,可能需要設(shè)計其焦距為 5mm,數(shù)值孔徑為 0.3,工作波長在 400 - 700nm 之間。 fJLl-H 根據(jù)光學(xué)設(shè)計結(jié)果,生成透鏡的表面輪廓數(shù)據(jù)。這個輪廓數(shù)據(jù)描述了透鏡表面的高度變化,通常以數(shù)字形式存儲,它將作為光刻工藝中的圖案設(shè)計基礎(chǔ)。 0fqcPi 光刻掩模設(shè)計 =IL\T8y09 基于透鏡的表面輪廓數(shù)據(jù),設(shè)計光刻掩模圖案。光刻掩模是一種帶有特定圖案的模板,用于在光刻過程中控制光線的曝光區(qū)域。 RE t&QP 對于平面透鏡制造,掩模圖案要精確地對應(yīng)透鏡表面的高低起伏部分。例如,如果透鏡的某個區(qū)域需要凸起,在掩模上對應(yīng)的區(qū)域則是透光的,以便后續(xù)的光刻膠在該區(qū)域曝光并發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而形成與透鏡形狀相關(guān)的結(jié)構(gòu)。掩模圖案通常采用計算機輔助設(shè)計(CAD)軟件進行設(shè)計,并且要考慮到光刻工藝的分辨率極限。例如,目前先進的光刻技術(shù)分辨率可以達到幾納米級別,但實際掩模設(shè)計要根據(jù)所使用的光刻設(shè)備能力來確定圖案的最小特征尺寸。 (pELd(*Ga 二、材料準(zhǔn)備 W
名山县|
阜城县|
南安市|
盘山县|
吉隆县|
定西市|
宣恩县|
屏东县|
永川市|
上杭县|
福清市|
金门县|
兴城市|
轮台县|
钦州市|
闽清县|
镶黄旗|
无极县|
盐池县|
永昌县|
新疆|
长海县|
太白县|
新干县|
淮北市|
吴忠市|
呼和浩特市|
桐梓县|
海阳市|
金山区|
堆龙德庆县|
兰考县|
红河县|
瓦房店市|
江陵县|
建昌县|
花莲县|
凤阳县|
黎城县|
泊头市|
上林县|
| |