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infotek

2025-05-28 07:57

用于微結(jié)構(gòu)晶片檢測(cè)的光學(xué)系統(tǒng)

摘要 1<qVN'[
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在半導(dǎo)體工業(yè)中，晶片檢測(cè)系統(tǒng)被用來(lái)檢測(cè)晶片上的缺陷并找到它們的位置。為了確保微結(jié)構(gòu)所需的圖像分辨率，檢測(cè)系統(tǒng)通常使用高NA物鏡，并且工作在UV波長(zhǎng)范圍內(nèi)。作為例子，我們建立了包括高NA聚焦和光與微結(jié)構(gòu)相互作用的完整晶片檢測(cè)系統(tǒng)的模型，并演示了成像過(guò)程。

任務(wù)描述

微結(jié)構(gòu)晶圓 <rwOI.W l$
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