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光行天下 -> 光學薄膜設計,工藝與設備 -> 基底對光學薄膜弱吸收測量的影響 [點此返回論壇查看本帖完整版本]

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qasy	2007-08-09 19:55
基底對光學薄膜弱吸收測量的影響基底對光學薄膜弱吸收測量的影響

lilylyl	2007-08-09 21:16
haODONGXI!!

lilylyl

2007-08-09 21:19

主要鍍膜材料及其性能和用途
名稱　　折射率　　透光范圍　　蒸發(fā)溫度(℃) 　　　蒸發(fā)源　　　　　　應用
三氧化二鋁 1.62/550nm 200~5000 2000-2200 　　　電子槍　增透膜、多層膜
氟化鈰　　1.63/500nm 300~5000 1429 　　　鉬，鉭，電子槍增透膜、多層膜
氧化鈰　2.35/500nm 400~16000 1950 　　　　　　電子槍　　　增透膜
冰晶石　1.33/500nm 250~14000 1000 　鉬，鉭，電子槍　　　　　增透膜
氧化鉿　1.95/500nm 230~7000 2500 　　電子槍　　　紫外-近紅外多層膜