| yzhuang |
2007-09-20 09:37 |
有興趣參加光學(xué)薄膜大會(huì)的請(qǐng)看看
中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)光學(xué)薄膜專業(yè)委員會(huì)研究決定，2007年10月19-21日在上海舉行《2007中國(guó)光學(xué)薄膜與技術(shù)學(xué)術(shù)交流大會(huì)》。本次大會(huì)將對(duì)近年來國(guó)內(nèi)及周邊國(guó)家與地區(qū)的光學(xué)薄膜研究的最新進(jìn)展，特別是光學(xué)薄膜產(chǎn)業(yè)的發(fā)展進(jìn)行學(xué)術(shù)交流與研討。同時(shí)作為全國(guó)光學(xué)薄膜界的盛會(huì)，本次會(huì)議期間將舉行會(huì)員代表大會(huì)，選舉產(chǎn)生新一屆的專業(yè)委員會(huì)。 ]T<tkvcI
本次大會(huì)的學(xué)術(shù)交流與產(chǎn)業(yè)研討將集中在光學(xué)薄膜的新技術(shù)新應(yīng)用與新發(fā)展方面，注意突出光學(xué)薄膜產(chǎn)業(yè)近年來在國(guó)內(nèi)的發(fā)展對(duì)中國(guó)光學(xué)薄膜技術(shù)的推進(jìn)作用，以及研討中國(guó)未來光學(xué)薄膜產(chǎn)業(yè)的發(fā)展趨勢(shì)。會(huì)議的基本議題有： }U'VVPh _
光學(xué)薄膜的新設(shè)計(jì)與新器件 mY[* (a
光學(xué)薄膜新的制備技術(shù)（包括沉積技術(shù)，監(jiān)控技術(shù)等） ;e{e
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光學(xué)薄膜的檢測(cè)技術(shù) 4L bll%[9
光學(xué)薄膜的新應(yīng)用 !^'6&N R#K
極端環(huán)境或要求的光學(xué)薄膜 Ot+Z}Z-
有機(jī)/無機(jī)型光學(xué)薄膜 e sM r @Oc
薄膜型光子晶體與技術(shù) $[g#P^
國(guó)內(nèi)光學(xué)薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢(shì)
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