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2009-09-16 23:41 |
薄膜厚度和消光系數(shù)的透射光譜測量方法(doc文檔)
薄膜厚度和消光系數(shù)的透射光譜測量方法摘要:本文提出薄膜厚度和消光系數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)曲線測量法,論述了方法的測量原理和測量程序。該法的膜厚的測量范圍為~80nm到2000nm;膜厚的測量誤差大約為13nm。 hVZo"XUb ?9S+Cj` 關(guān)鍵詞:薄膜、厚度、消光 ,'_(DJX :gaETr 自潔凈玻璃的自潔凈性能、低幅射玻璃的低幅射性能都與其膜層的厚度、折射率和消光系數(shù)有著密切的關(guān)系[1]。近代微電子學(xué)裝置,如成像傳感器、太陽能電池、薄膜器件等都需要這些參數(shù)[2] 。這些參數(shù)的數(shù)據(jù)是薄膜材料、薄膜器件設(shè)計(jì)的必不可少的基礎(chǔ)性數(shù)據(jù)。 GZ"/k<~0 NL-_#N$ 通常都是單獨(dú)測量這些參數(shù),薄膜厚度用原子力顯微鏡、石英震蕩器、臺階儀、橢偏儀、干涉法來測量。薄膜折射率的測量就比較麻煩,因?yàn)樗遣ㄩL的函數(shù),它可以用基于干涉、反射原理的方法測量。從薄膜的吸收譜就可測量其消光系數(shù)。顯然,取得這些數(shù)據(jù)是很麻煩、很費(fèi)時(shí)、成本也很高,特別是對于納米級薄膜。 u _X}-U jGiw96,Y
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