| chenchao |
2011-12-18 16:12 |
直流磁控濺射在鋁襯底上沉積(TixAly)N薄膜及其性能研究
直流磁控濺射在鋁襯底上沉積(TixAly)N薄膜及其性能研究摘要：本文利用獨(dú)立鈦靶 ,在襯底6063鋁合金表面鍍覆了一層氮化物薄膜。借助于 X射線(xiàn)衍射儀對(duì)薄膜的相組成進(jìn)行分析 ,利用薄膜測(cè)厚儀和顯微硬度計(jì)對(duì)薄膜的厚度和硬度進(jìn)行測(cè)量 ,通過(guò)光學(xué)金相顯微鏡及場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 ,觀(guān)察薄膜的微觀(guān)組織及薄膜質(zhì)量。通過(guò)觀(guān)測(cè)發(fā)現(xiàn) ,以獨(dú)立鈦靶在鋁襯底表面可以生成(TixAly)N薄膜。薄膜可以強(qiáng)化合金的表面、 增加合金的表面硬度。薄膜上的硬度壓痕周?chē)鷽](méi)有發(fā)現(xiàn)放射狀的裂紋 ,表明薄膜與襯底結(jié)合良好。通過(guò) SEM觀(guān)察發(fā)現(xiàn)薄膜有 shB3[W{}!)
良好的顆粒均勻性、 致密性和表面平整度。 l&\y]ZV={
3ZT3I1/D
關(guān)鍵詞：磁控濺射；(Ti Al )N；薄膜；性能
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