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lincc 2011-12-21 22:36

鍍膜時(shí)工件轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)速不夠會(huì)怎么樣

鍍單層MGF2的時(shí)候，工件的轉(zhuǎn)動(dòng)電壓調(diào)太小了，會(huì)導(dǎo)致膜厚不均勻嗎？還是會(huì)更嚴(yán)重？求高手指點(diǎn) Ed%8| M3  
12511895 2011-12-22 21:37
那會(huì)有的，不過(guò)要看你的轉(zhuǎn)速多少，越慢就均勻越不好，
lincc 2011-12-23 23:28
12511895:那會(huì)有的，不過(guò)要看你的轉(zhuǎn)速多少，越慢就均勻越不好， (2011-12-22 21:37)  'iM;e K  
,6,sz]3-  
嗯，試了下，鍍單層MGF2還好
kouyang3232 2012-01-05 19:55
單層氟化鎂我沒(méi)開(kāi)公轉(zhuǎn)都沒(méi)問(wèn)題。。。（忘了開(kāi)），膜層少不會(huì)影響太大，但大多數(shù)情況下應(yīng)該是影響其均勻性。太慢也可能有噴點(diǎn)
12511895 2012-01-05 21:11
kouyang3232:單層氟化鎂我沒(méi)開(kāi)公轉(zhuǎn)都沒(méi)問(wèn)題。。。（忘了開(kāi)），膜層少不會(huì)影響太大，但大多數(shù)情況下應(yīng)該是影響其均勻性。太慢也可能有噴點(diǎn) (2012-01-05 19:55)  H`/Q hE  
 laX(?{_  
那能噴點(diǎn)啊？？？？
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