| qjs69 |
2006-07-15 20:30 |
光刻光學(xué)碼盤、碼尺、分劃板、標(biāo)尺、光柵、鍍盤、鑒別率板等
本公司美國光刻圖形發(fā)生器利用光刻正膠或負膠，在感光板上制作用于加工集成電路的高精度、高品質(zhì)掩膜版，也可根據(jù)需求制作優(yōu)質(zhì)的光學(xué)碼盤、碼尺、分劃板、標(biāo)尺、光柵、鍍盤、鑒別率板等精密光學(xué)零件的母板和任意圖形。 ):'wxIVGI
光刻機性能參數(shù)： ?OFa
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可加工最小線寬： 直接光刻 2.5 微米；重復(fù)步進 1 微米 gZ4'
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最大加工范圍： 152毫米 × 220毫米 ).;{'8Q
定位精度： 0.38微米 <4;
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最小可控制增量： 0.1微米 7. <jdp
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qjs69@126.com 13057610151-錢先生
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