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春頭

2014-06-13 22:23

光學(xué)元件拋光亞表面損傷實(shí)驗(yàn)研究

摘要：設(shè)計光學(xué)元件拋光亞表面損傷檢測實(shí)驗(yàn)，使用原子力顯微鏡(AFM)檢測傳統(tǒng)拋光亞表面塑性劃痕與磁流變拋光亞表面塑性劃痕的最大深度，通過比較驗(yàn)證磁流變拋光對亞表面塑性劃痕的抑制能力;同時利用二次離子質(zhì)譜儀的深度剖析功能檢測磁流變拋光石英樣件后表面水解層的深度，指出磁流變拋光屬于低損傷性拋光技術(shù)。