| hhp409 |
2015-10-09 15:53 |
請(qǐng)教一個(gè)減反射薄膜設(shè)計(jì)
已知基板為硅片折射率為3.85，從基板到外界空氣依次為：5nm厚的二氧化硅層、2層不同折射率和厚度的氮化硅薄膜、空氣，第一層氮化硅，其厚度為d1（具體數(shù)值待定），折射率為n3（折射率在2.0-2.5之間可調(diào)，可取其任意值，具體數(shù)值待定），第二層氮化硅，其厚度為d2（具體數(shù)值待定），折射率為n4（折射率在2.0-2.5之間可調(diào)，可取其任意值，具體數(shù)值待定），且d1+d2=75nm，要求在300-1100nm的整個(gè)太陽(yáng)光譜反射率最低，請(qǐng)問(wèn)：n3、n4、d1和d2值是多少才能達(dá)到最佳？謝謝！ yYe>a^r4R
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