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光行天下 -> 光學薄膜設計,工藝與設備 -> 光弛1300鍍膜機離子源柵網更換后氧化硅與氧化鈦匹配系數失衡，請大神幫忙分析一下 [點此返回論壇查看本帖完整版本]

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liujun0527	2017-06-07 13:56
光弛1300鍍膜機離子源柵網更換后氧化硅與氧化鈦匹配系數失衡，請大神幫忙分析一下各位好，最近在生產中發(fā)現鍍膜機固定的2套柵網周期性更換后，內外圈氧化硅與氧化鈦材料匹配系數失衡，導致曲線頻譜落差變大，請各大神指導一下從哪些方向上分析改善。 5^e\|802 7b hJt_`Q

756340418	2017-06-13 09:01
修補正板

yzhuang	2017-06-27 11:24
一樓正解，大家一定要注意的是，離子源的狀態(tài)會影響膜層的位置均勻性，更換離子源部件或者調整離子源參數都可能會發(fā)生樓主那樣的情況

囊中蓄乾坤	2017-06-30 01:36
如果只是鍍前轟擊的話，會不會影響鍍膜的均勻性。遇到過在鍍后轟擊會引起膜層不均勻的現象。

拉比熊	2017-07-05 10:37
首先檢測的是離子源柵網更換是的重復性工作，其次才是MASK

奔跑的小駿馬	2017-07-22 10:14
MASK只是修正鐘罩的，而鐘罩是不變得。所以我們要從以下幾個方面去考慮：