Simulator是Essential Macleod的新增功能, 可以幫助我們回答這個問題。
cL-[ZvyVX 光學(xué)薄膜中的
公差評定是個實(shí)際問題。沒有一個好的、通用的分析技術(shù)。Essential Macleod里的一個簡單工具－Errors, 假定所有膜層中的厚度誤差都是隨機(jī)的，能夠顯示在許多薄膜中獨(dú)立控制命令不可能精確，而用其它的方法確實(shí)能夠構(gòu)造這些薄膜。實(shí)事上，公差和誤差的影響很大程度上依賴于控制技術(shù)。通過將誤差的Monte Carlo近似擴(kuò)展到控制過程的實(shí)際
模型中去，Simulator解決了公差問題。
bZ?v-fn\D, Sj-n;F|=X 使用由Runsheet創(chuàng)建的控制設(shè)計, Simulator模擬沉積的控制，同時引入隨機(jī)和
系統(tǒng)效應(yīng)，如信號中的噪聲，加工因素的不同，
材料密度誤差等等，并且顯示這些
參數(shù)對最后
模擬的薄膜產(chǎn)品的影響。
. S!mf pf2[ , v/ Simulator比簡單的監(jiān)控問題回答得更多。所有與薄膜系統(tǒng)有關(guān)的其它的參數(shù)都可以轉(zhuǎn)換成檢查模擬和它們影響的參數(shù)。Simulator的結(jié)果顯示，在沒有改變系統(tǒng)中噪聲或
精度時，某一膜層的監(jiān)控過程中的一個小小改變，對DWDM應(yīng)用的多腔分束器的設(shè)計中，能否引起實(shí)質(zhì)性的改進(jìn)。
3]OE} [R Bgn&:T8< &x=.$76 注：要Simulator操作正確，Runsheet提高必須也存在。
Rvkedb .sxcCrQE 聯(lián)系方式：17621763047
