摘要 /rc%O*R c EnkU] VirtualLab可用于分析任意
光柵類(lèi)型。斜光柵在復(fù)雜
光學(xué)系統(tǒng)中已經(jīng)可以實(shí)現(xiàn),并且其重要性在提高。斜光柵通過(guò)特殊光學(xué)介質(zhì)實(shí)現(xiàn),以此定義其一般性的幾何
結(jié)構(gòu)。而且,幾個(gè)高級(jí)規(guī)格選項(xiàng)可用,例如,添加一個(gè)完整和部分涂層。這個(gè)案例解釋了配置的可用選項(xiàng),并且討論了其對(duì)光柵結(jié)構(gòu)的影響。
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SOf{Hx0C6 {~Tg7<\L 介質(zhì)目錄中的斜光柵介質(zhì) w:i:~f . ZC0-wr\
%O[N}_XHEh 0CExY9@Wq 內(nèi)置斜光柵介質(zhì)可以在VirtualLab的嵌入的介質(zhì)目錄中找到。
Shr,#wwM`B 可用于設(shè)置復(fù)雜光學(xué)光柵結(jié)構(gòu)(所謂的堆棧)和傅里葉模式法(FMM)分析。
zaimGMJ , PWr(*ZP>hI 斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框 iw9Q18:I} b=;nm#cAI
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