摘要：信息技術(shù)已經(jīng)進(jìn)入納米時(shí)代，納米光學(xué)和光子學(xué)正是為滿足快速和高密度信息技術(shù)的需求而產(chǎn)生、發(fā)展的。先進(jìn)的納米光學(xué)和光子學(xué)器件應(yīng)該是高速、高分辨率和高集成的，形成各類光學(xué)和光子學(xué)芯片和盤片。由于器件最小特征尺寸和加工分辨率受限于光的衍射極限，現(xiàn)有技術(shù)已接近實(shí)用化技術(shù)的理論極限并且成本很高，只有突破光學(xué)衍射極限才能進(jìn)一步發(fā)展納米光學(xué)和光子學(xué)。在光的遠(yuǎn)場(chǎng)和近場(chǎng)應(yīng)用超分辨率技術(shù)，是當(dāng)前重要的前沿課題，它們的應(yīng)用主要集中于信息技術(shù)領(lǐng)域，具有代表性的是納米信息存儲(chǔ)和光刻中的光學(xué)超分辨率技術(shù)等。 44uM:;
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關(guān)鍵詞：納米光學(xué); 納米光子學(xué); 超分辨率; 光信息存儲(chǔ); 光刻
