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    [分享]突破光學(xué)衍射極限, 發(fā)展納米光學(xué)和光子學(xué) [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 正序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2018-05-31
    摘要:信息技術(shù)已經(jīng)進入納米時代,納米光學(xué)光子學(xué)正是為滿足快速和高密度信息技術(shù)的需求而產(chǎn)生、發(fā)展的。先進的納米光學(xué)和光子學(xué)器件應(yīng)該是高速、高分辨率和高集成的,形成各類光學(xué)和光子學(xué)芯片和盤片。由于器件最小特征尺寸和加工分辨率受限于光的衍射極限,現(xiàn)有技術(shù)已接近實用化技術(shù)的理論極限并且成本很高,只有突破光學(xué)衍射極限才能進一步發(fā)展納米光學(xué)和光子學(xué)。在光的遠場和近場應(yīng)用超分辨率技術(shù),是當(dāng)前重要的前沿課題,它們的應(yīng)用主要集中于信息技術(shù)領(lǐng)域,具有代表性的是納米信息存儲和光刻中的光學(xué)超分辨率技術(shù)等。 \zBd<H4S:  
    y2GQN:X  
    關(guān)鍵詞:納米光學(xué); 納米光子學(xué); 超分辨率; 光信息存儲; 光刻
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    cyqdesign 光幣 +5 - 2018-05-31
     
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