如何分析部分干涉成像系統(tǒng) （光刻機系統(tǒng)） d<Os TA  
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在光刻應(yīng)用中，所使用的光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系統(tǒng)中的掩模? vf=  
在這里給大家分享一個案例， 希望可以幫到大家。     ) G{v>Z,  
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這里是一步一步的如何在ZEMAX 中操作：https://sot.com.sg/coherent-imaging/ [:QMn
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這里是案例的ZEMAX 文件： 備注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本過低，可能無法正常打開， 請諒解！ jvV8`BQ{  
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如果不能打開文件， 請告知我， 我轉(zhuǎn)發(fā)給你。   r$F]e]Ic\  
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呦西呦西

好東西謝謝

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哇偶，正好需要 12d}#G<q-  

學(xué)習(xí)一下，學(xué)做尚光人。 c,+(FQ9