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    [分享]用于光刻機照明均勻化的微柱面鏡陣列設(shè)計 [復(fù)制鏈接]

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    離線991518
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2020-08-24
    摘要:均勻照明投影光刻機中實現(xiàn)光刻線條高度均一性的重要條件。采用微透鏡陣列作為照明勻光器件,能夠 在實現(xiàn)矩形照明光斑的同時獲得極高的遠場分布均勻性。基于微透鏡陣列現(xiàn)有的加工工藝,設(shè)計出二維方向分開 的柱面微透鏡陣列,并通過優(yōu)化設(shè)計,克服了微透鏡之間的接縫在遠場光場處產(chǎn)生的中心亮線。仿真分析表明,所 設(shè)計的微透鏡陣列的遠場分布不均勻性達到0.85%。 oG)T>L[&  
    / =9Y(v  
    關(guān)鍵詞:幾何光學(xué);微柱面鏡陣列;光學(xué)設(shè)計;照明均勻性
    附件: 用于光刻機照明均勻化的微柱面鏡陣列設(shè)計.rar (1733 K) 下載次數(shù):130 ,售價:2光幣[記錄]
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    mang2004 光幣 +5 - 2020-08-25
    cyqdesign 光幣 +5 - 2020-08-24
     
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    離線optifdtd
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2020-08-25
    學(xué)習(xí)了解。。。。。。
    離線ruanpeiz
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2020-08-27
    好東西  學(xué)習(xí)一下
    離線ruanpeiz
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2020-08-27
    感謝 感謝
    離線jiatong
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2020-08-29
    感謝! 3B;Gm<fJ9N  
    離線wuyy1227
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    只看該作者 5樓 發(fā)表于: 2020-08-31
    學(xué)習(xí)了!
    離線lzj421223
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    只看該作者 6樓 發(fā)表于: 2020-09-02
    學(xué)習(xí)了!!!謝謝
    離線hale1987
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    只看該作者 7樓 發(fā)表于: 2020-09-08
    感謝!
    離線寒夜
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    只看該作者 8樓 發(fā)表于: 2020-09-09
    謝謝分享。
    離線居安思危
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    只看該作者 9樓 發(fā)表于: 2020-09-10
    感謝,好東西,學(xué)習(xí)一下
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