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[分享]用于光刻機照明均勻化的微柱面鏡陣列設計 [復制鏈接]

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高級工程師

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2020-08-24

關鍵詞：光刻機幾何光學光學設計柱面鏡

摘要：均勻照明是投影光刻機中實現(xiàn)光刻線條高度均一性的重要條件。采用微透鏡陣列作為照明勻光器件，能夠在實現(xiàn)矩形照明光斑的同時獲得極高的遠場分布均勻性。基于微透鏡陣列現(xiàn)有的加工工藝，設計出二維方向分開的柱面微透鏡陣列，并通過優(yōu)化設計，克服了微透鏡之間的接縫在遠場光場處產生的中心亮線。仿真分析表明，所設計的微透鏡陣列的遠場分布不均勻性達到0.85％。


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