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請(qǐng)問FRED這套軟件針對(duì)一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細(xì)仿真光源透過LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個(gè)面的光均勻度)？LGP上會(huì)印刷光學(xué)級(jí)油墨點(diǎn)(Pattern)，我們會(huì)控制Pattern直徑的大小，來控制整個(gè)背光模塊的均勻性，是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)？ ~x0- iBF
#5ohmp,u
Ans:可以，光學(xué)仿真軟件-FRED可以進(jìn)行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。 A 5.'h<
k[r./xEv+t
如下圖，并且可利用ARRAY的方法快速的布置重復(fù)式網(wǎng)點(diǎn) O)U$Ef ~P]HG;$?n shDt&_n
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在FRED可以設(shè)定散射表面，而油墨本身就是一種散射表面，如下 ohc/.5Kl
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YA;8uMqh;
光線追跡： px
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