深紫外光刻、極紫外光刻和先進光源等現(xiàn)代光學工程需求牽引先進光學制造技術持續(xù)發(fā)展，要求超光滑光學元件表面粗糙度達到原子級水平以及表面全頻段面形誤差達到RMS(Root Mean Square)亞納米量級甚至幾十皮米，推動超光滑光學元件制造要求不斷逼近物理極限。目前，對于如何實現(xiàn)上述超高精度要求的超光滑加工技術及裝備仍然存在技術挑戰(zhàn)。尤其對如何實現(xiàn)柱面，橢球面，超環(huán)面等復雜曲面的原子量級超光滑加工仍是國內外前沿研究方向。彈性發(fā)射加工技術是一種去除函數(shù)穩(wěn)定，超低亞表面缺陷，面向原子級的超光滑加工方法，可以作為加工上述精度要求光學元件的手段。本文總結了彈性發(fā)射加工技術的國內外研究現(xiàn)狀及最新進展，歸納了彈性發(fā)射加工技術的原理，包含流體特性、拋光顆粒運動特性和化學特性，彈性發(fā)射加工裝備，影響彈性發(fā)射加工技術表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了彈性發(fā)射加工技術面臨的問題，展望了未來的發(fā)展方向，期望為彈性發(fā)射加工技術進一步發(fā)展和應用提供一定的參考。
