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摘要 $L>@Ed< w%VU/6~ 干涉測(cè)量法是光學(xué)計(jì)量學(xué)的重要技術(shù)。 它被廣泛用于例如,表面輪廓、缺陷、高精度的機(jī)械和熱變形。 作為一個(gè)典型示例,在VirtualLab Fusion中借助非序列場(chǎng)追跡,構(gòu)建了具有相干激光光源的Mach Zehnder干涉儀。 證明了光學(xué)元件的傾斜和移位如何影響干涉條紋圖案。 "XKy#[d2 YTX,cj#D^&
#*uL)2nR I^]2K0+x x 建模任務(wù) 5C*Pd
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%'the c9'vDTE%~ :P\7iW 元件傾斜引起的干涉條紋 6BHXp#
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Eh;'S"{/?j Gg3,:A_ w 元件移動(dòng)引起的干涉條紋 p2[n$61 }6}l7x
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