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薄膜測量設備(膜厚、n、k等)

發(fā)布:george1977 2007-03-15 10:44 閱讀:3547
美國Filmetrics公司F20系列薄膜測量設備:可精確快速測量各種光學半導體薄膜的厚度、折射率及消光系數(shù)等。 <S6?L[_  
精度:0.4%或1埃 ]n<B a7Y  
測量速度:秒級 9f5~hBlo  
光譜范圍:紫外到紅外 !8W0XUqh+  
厚度范圍:幾十埃到幾百微米 fb^R3wd$ff  
多種光接入方式(樣品測量平臺)。 589fr"Ma,6  
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詳情請來信或登錄www.clight.com.cn查看。
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