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    [技術(shù)]VirtualLab Fusion中的光學(xué)各向異性介質(zhì) [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-11-04
    摘要 7jtDhsVz  
    r)/nx@x  
    光學(xué)各向異性,也被稱為雙折射,是產(chǎn)生各種光學(xué)現(xiàn)象及其相關(guān)應(yīng)用的原因。VirtualLab Fusion提供了一種快速和嚴(yán)格的場跟蹤分析算法,該算法應(yīng)用于S矩陣求解器,并工作在k域。在本應(yīng)用案例中,介紹了各向異性介質(zhì)的基本配置。 Yd>ej1<  
    w`a(285s)i  
    E#^?M#C  
    ]R7zvcu&  
    目錄中的各向異性介質(zhì) 7w8I6  
    n1;y"`gHk  
    W:TF8Onw  
    laX67Vjv  
    定義各向異性介質(zhì) fo$A c  
    雙軸晶體由三個(gè)方向的主折射率定義; z&W5@6")`  
    單軸晶體由o折射率和e折射率定義; W4V !7_  
    一般各向異性介質(zhì)可以通過直接定義介電常數(shù)張量建立。 n+94./Mh  
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