各位大佬，磁控濺射鍍膜過程中的電子損傷能用什么辦法檢測出來嘛，電子損傷有什么辦法將其消除或者規(guī)避掉嘛？

是電子本身造成的損傷，還是二次電子造成的靜電損傷？ H-5f!>)  
有些問題屬于小知識小竅門，網上問的到結果。 QIN# \  
有些問題屬于別人花了很多錢開發(fā)出來的獨有技術和工藝， &@7|_60  
屬于保密范疇，網上是問不到結果的。 /e*<-a  

ouyuu:是電子本身造成的損傷，還是二次電子造成的靜電損傷？ PwNLJj+%  
有些問題屬于小知識小竅門，網上問的到結果。 WCWBvw4&"{  
有些問題屬于別人花了很多錢開發(fā)出來的獨有技術和工藝， \J\1i=a-=  
屬于保密范疇，網上是問不到結果的。 ZNA?`Z)f  
 (2021-12-16 11:58)  khu,P[3>  

!!K=v7M  
好滴，謝謝。這個電子損傷主要是濺射沉積過程中產生的電子，包括二次電子，應該不包括靜電。

這樣…… Ia"bP` L  
我這邊只做過新柯隆，他們家是先濺射再氧化的。 *AN#D?X
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氧化的時候多余的氧離子就可以把電子中和了，所以之前也沒有關注過這種問題。 u})JQ<|  
你們能不能鍍膜的時候加上一個氧化源？

ouyuu:這樣…… G7
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我這邊只做過新柯隆，他們家是先濺射再氧化的。 KP(Bu0S  
氧化的時候多余的氧離子就可以把電子中和了，所以之前也沒有關注過這種問題。 v]!7=>/2  
你們能不能鍍膜的時候加上一個氧化源？ (2021-12-24 11:13)  zYNJF>^<  

-d~'tti  
好滴，謝謝，這個加入氧化源是不是相當于反應濺射

hxn123:好滴，謝謝，這個加入氧化源是不是相當于反應濺射 (2021-12-28 23:10)  \t@`]QzG:  

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是的。