超透鏡是基于超表面的成像器件，能夠精確調(diào)控光的相位、偏振、振幅，具有輕薄、易集成、平面化的優(yōu)點。針對近紅外成像器件的小型化、集成化發(fā)展趨勢，基于非晶硅材料設(shè)計制備了近紅外偏振不敏感超透鏡。針對超透鏡的基元結(jié)構(gòu)選擇問題，對比了采用8階、6階基元設(shè)計的超透鏡聚焦效率；為提高加工容差和降低加工難度，采用了最大深寬比為6的8階基元設(shè)計超透鏡；針對超透鏡仿真與加工之間跨度大的問題，利用化學(xué)氣相沉積的方法生長了600 nm厚度的多晶硅，利用電子束刻蝕等工藝制備了超透鏡樣品。測試結(jié)果表明：超透鏡形貌結(jié)構(gòu)良好，聚集效率為65%。
