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報名 | Zemax 和 Lumerical 工作流程第二部分：從微觀到宏觀的光學(xué)仿真

發(fā)布：ueotek 2022-08-05 15:07 閱讀：1148

在這次網(wǎng)絡(luò)研討會中，我們將研究 Ansys 光學(xué)工具組合如何為超表面或超透鏡的設(shè)計提供一個完整的工作流。這些革命性的超薄光學(xué)元件可用于操縱可見光和紅外波段的光，用于許多應(yīng)用，包括智能手機攝像頭、AR/MR、3D傳感和人臉識別。由于超表面的亞波長特性，使用電磁場求解器（Ansys Lumerical FDTD/RCWA）的組合來準(zhǔn)確仿真超表面的相位和場輪廓至關(guān)重要，然后再結(jié)合光線追跡（Zemax OpticStudio）將其優(yōu)化至需求的鏡頭規(guī)格。

作為仿真領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)者，Ansys 致力于提供解決方案以加快分析速度并緩解光學(xué)設(shè)計工作流程中的挑戰(zhàn)。8月17日，Ansys 將推出『Zemax和Lumerical工作流程：從微觀到宏觀的光學(xué)仿真（第2部分）』網(wǎng)絡(luò)研討會，將重點介紹 Zemax OpticStudio 和 Ansys Lumerical 之間相互聯(lián)動的工具，幫助工程師實現(xiàn)從微觀到宏觀光學(xué)系統(tǒng)的仿真設(shè)計，從而有效地設(shè)計制作創(chuàng)新光學(xué)系統(tǒng)，歡迎預(yù)約參會。

時間：8月17日（星期五），16:00-17:00
費用：免費

講師介紹：

陳媛 | Ansys Zemax 應(yīng)用工程師

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