據(jù)報(bào)道，華為周二公布了一項(xiàng)新專(zhuān)利，展示了一種《反射鏡、光刻裝置及其控制方法》，而這種方法便能夠解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無(wú)法勻光的問(wèn)題，在極紫外光的光刻裝置基礎(chǔ)上進(jìn)行了優(yōu)化，進(jìn)而達(dá)到勻光的目的。 :;Npk9P(N  
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專(zhuān)利名稱(chēng)：反射鏡、光刻裝置及其控制方法 8{Vt8>4  
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專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)枺篊N202110524685.X K=dG-
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該專(zhuān)利提供一種光刻裝置，該光刻裝置通過(guò)不斷改變相干光形成的干涉圖樣，使得照明視場(chǎng)在曝光時(shí)間內(nèi)的累積光強(qiáng)均勻化，從而達(dá)到勻光的目的，進(jìn)而也就解決了相關(guān)技術(shù)中因相干光形成固定的干涉圖樣而無(wú)法勻光的問(wèn)題。 jLEO-<)-)  
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