離子源清洗和退膜出來都是干凈的，但是到鍍碳膜后。出來的模具表面都有2到4個點(diǎn)臟污。 YRv96|c,  
測試過鍍膜500秒以下出來的是很好的，1000秒以上出來基本都有幾個點(diǎn)。過濾濾網(wǎng)重新噴砂換過還是如此。真空度偶爾浮動不是馬上恢復(fù)。抽真空時間很長懷疑真空有問題， J,=ZUh@M  
iweT@P`  
請問一下造成上面的問題有哪些原因呢。

加  YKWQAZWSX

麻點(diǎn)原因太多了。 >Y+m54EE  
1，你的工藝要講清楚，某些鍍膜材料本身容易噴濺，噴濺的時候會有真空波動。 P*U^,Jh
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2，如果用離子源輔助，中和不足的情況下，會吸附鍍膜材料的小顆粒到鍍膜傘去。 9`"#OQPn1  
3，坩堝某些部位漏（冷卻水或者空氣都有可能），會造成氣流將小顆粒吹到傘上。 WIAukM8~  
4，POLYCOLD化霜太快，會將盤管上的臟物爆到傘上去。 nZ#u#V  
你情況說的越具體，得到的答復(fù)針對性越高。否則都只能泛泛而談。