鍍膜工藝：1.AL2O3+H4+AL2O3+H4+AL2O3+H4+MGF2(高溫鍍膜：320度，無IAD，有這種現(xiàn)狀） ?ZP@H _w6}  
                  2.SIO2+OS50+SIO2+OS50+SIO2+OS50+SIO2(高溫鍍膜：120度，IAD，有這種現(xiàn)狀） Hd57Iw  
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描述:分光

圖片:分光對(duì)比.png

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V  
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描述:鏡片

圖片:鏡片.png

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o'K= X E  
鍍膜要求：440-660nmRabs<0.3%  AOI:5° V@r V+s  
鍍膜下機(jī)確認(rèn)無這種現(xiàn)象，放置24H后，表面開始吸附東西。

你鍍的光譜這也達(dá)不到要求啊

這種現(xiàn)象是膜層吸潮造成的嗎？

樓主找到解決辦法了嗎，能不能分享一下 9r>iP L2H  

整體曲線上浮，可以考慮表面層吸潮，和基底水汽侵蝕