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華為“成像光學(xué)器件和成像設(shè)備”專利公布 據(jù)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公告，華為技術(shù)有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“成像光學(xué)器件和成像設(shè)備”，公開(kāi)號(hào)CN117677882A，申請(qǐng)日期為2021年7月。 專利摘要顯示，公開(kāi)了一種光學(xué)器件總長(zhǎng)度縮短的潛望式光學(xué)系統(tǒng)。所述光學(xué)系統(tǒng)包括：反射光學(xué)元件(P)，用于將光路從物體側(cè)向圖像側(cè)彎曲90度；在所述反射光學(xué)元件(P)之后的所述光路上的后部透鏡組(G_rear)，所述后部透鏡組(G_rear)作為整體具有正屈光力。所述反射光學(xué)元件(P)在所述物體側(cè)的第一表面(S1)上具有凸曲率，在所述圖像側(cè)的第三表面(S3)上具有凹曲率。  |
