請(qǐng)教一下，鍍膜前的離子源前處理時(shí)間多長(zhǎng)合適，有什么依據(jù)或者判定標(biāo)準(zhǔn)嗎？

和離子源能量強(qiáng)度有關(guān)，哪怕同一個(gè)離子源，新柵網(wǎng)和舊柵網(wǎng)的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是 Iz9b5  
1，用氧離子氧化表面的臟污（臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧，氧化后都變成氣體揮發(fā)了） f~{4hVA  
2，用重離子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的結(jié)合力。 %Iv*u sXP  
所以也和你清洗效果，清洗方式，鍍膜溫度，鍍膜材料有關(guān)。 T*rx5*:o  

一般來說轟擊15分鐘左右就夠，但是還是在進(jìn)爐前清洗工作一定要仔細(xì)，離子源主要為了輔助沉積。

學(xué)習(xí)一下，新手中

學(xué)習(xí)了，謝謝各位大神

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1，用氧離子氧化表面的臟污（臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧，氧化后都變成氣體揮發(fā)了） J=6( 4>  
2，用重離子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的結(jié)合力。 CkR 95*  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  +'{d^-( (  

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學(xué)習(xí)了

ouyuu:和離子源能量強(qiáng)度有關(guān)，哪怕同一個(gè)離子源，新柵網(wǎng)和舊柵網(wǎng)的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是
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