請教一下，鍍膜前的離子源前處理時間多長合適，有什么依據(jù)或者判定標(biāo)準(zhǔn)嗎？

ouyuu:和離子源能量強(qiáng)度有關(guān)，哪怕同一個離子源，新柵網(wǎng)和舊柵網(wǎng)的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是 <fcw:Ae  
1，用氧離子氧化表面的臟污（臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧，氧化后都變成氣體揮發(fā)了） n(el  
2，用重離子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的結(jié)合力。 3O'X;s2\d  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  \G &q[8F\  

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學(xué)習(xí)了。感謝版主分享。

ouyuu:和離子源能量強(qiáng)度有關(guān)，哪怕同一個離子源，新柵網(wǎng)和舊柵網(wǎng)的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是 yD9<-B<)  
1，用氧離子氧化表面的臟污（臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧，氧化后都變成氣體揮發(fā)了） A?sU[b6_  
2，用重離子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的結(jié)合力。 |K6hY-uC  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  ZM%z"hO9R  

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學(xué)習(xí)了

學(xué)習(xí)了，謝謝各位大神

學(xué)習(xí)一下，新手中

一般來說轟擊15分鐘左右就夠，但是還是在進(jìn)爐前清洗工作一定要仔細(xì)，離子源主要為了輔助沉積。

和離子源能量強(qiáng)度有關(guān)，哪怕同一個離子源，新柵網(wǎng)和舊柵網(wǎng)的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是 o"x&F  
1，用氧離子氧化表面的臟污（臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧，氧化后都變成氣體揮發(fā)了） G'z&U?Ng  
2，用重離子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的結(jié)合力。 |^m
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所以也和你清洗效果，清洗方式，鍍膜溫度，鍍膜材料有關(guān)。 <L__;j1Wx