請(qǐng)教一下，鍍膜前的離子源前處理時(shí)間多長合適，有什么依據(jù)或者判定標(biāo)準(zhǔn)嗎？

和離子源能量強(qiáng)度有關(guān)，哪怕同一個(gè)離子源，新柵網(wǎng)和舊柵網(wǎng)的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是 t 3(%UB  
1，用氧離子氧化表面的臟污（臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧，氧化后都變成氣體揮發(fā)了） m&Y;
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2，用重離子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的結(jié)合力。 s=H/b$v  
所以也和你清洗效果，清洗方式，鍍膜溫度，鍍膜材料有關(guān)。 h]J&A  

一般來說轟擊15分鐘左右就夠，但是還是在進(jìn)爐前清洗工作一定要仔細(xì)，離子源主要為了輔助沉積。

學(xué)習(xí)一下，新手中

學(xué)習(xí)了，謝謝各位大神

ouyuu:和離子源能量強(qiáng)度有關(guān)，哪怕同一個(gè)離子源，新柵網(wǎng)和舊柵網(wǎng)的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是 -hG 9  
1，用氧離子氧化表面的臟污（臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧，氧化后都變成氣體揮發(fā)了） Cb@S </b  
2，用重離子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的結(jié)合力。 +9Hk+.
 
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  CYFas:rPLT  

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