鍍膜設(shè)備，光馳OTFC，工藝條件：Ta2O5+SIO2,   溫度：320℃，射頻源 ='m$O  

兩個(gè)可能。1，離子源的中和電流不夠，導(dǎo)致膜內(nèi)有電荷積聚，調(diào)大中和電流試試。 <X8Urum  
2，片子洗凈的問題，鍍前用離子源多轟一下，看看有沒有改善。 AIHH@z   
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另外中和器偶爾的打火也有可能造成電荷積聚，但這個(gè)不會(huì)每爐都會(huì)實(shí)現(xiàn)。 UPfE\KN+p#  

學(xué)習(xí)中，謝謝樓上各位