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    [原創(chuàng)]SYNOPSYS 光學(xué)設(shè)計軟件課程七十九:反射式光刻物鏡設(shè)計 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 正序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-07-19
    一.概述
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    隨著光刻分辨率的不斷提高,光學(xué)光刻機中采用的投影物鏡結(jié)構(gòu)型式經(jīng)歷了演變和篩選過程。在早期的低分辨率光刻機中,全反射型、全折射型、折反射型多種結(jié)構(gòu)型式并存:在目前的高分辨率光刻機中,全折射式結(jié)構(gòu)型式是主流。 ,4k3C#!. i  
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