角放大率
3~Ll<8fv 近軸像空間主光線的角度與近軸物空間主光線角度之比。角度的計(jì)算考慮近軸的入瞳和出瞳位置。
GyfKSj; 變跡法
uW4.Q_O!H 變跡法指的是光學(xué)系統(tǒng)的入瞳照明的均勻程度。在缺省的情況下入瞳總是均勻照明的。但在需要得時(shí)候，入瞳必須有必要采用非均勻照明。為此，支持入瞳變跡法，這樣使得入瞳上的光能量的振幅可為變量。ZEMAX支持三種入瞳變跡法：均勻分布，高斯分布和正切分布。對(duì)每一種振幅分布（除均勻分布），變跡因子決定了光能量振幅對(duì)入瞳變化比例。參見“系統(tǒng)菜單”中變跡類型和變跡因子的討論。
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*j ZEMAX也支持用戶自定義變跡，而且用戶自定義變跡可置于任何一個(gè)表面。表面變跡的作用不同于入瞳變跡，原因在于表面不一定位于入瞳。關(guān)于表面變跡的更多信息，參見“表面類型”一章中的“用戶自定義表面”。
BY@l:y4 后焦長(zhǎng)度
,M$h3B\;r ZEMAX定義后焦長(zhǎng)度如下：最后一個(gè)玻璃面到與無(wú)窮遠(yuǎn)物體共軛的近軸像面的Z軸方向上的距離。如果光學(xué)系統(tǒng)中沒有玻璃面，則后焦長(zhǎng)度定義為第一個(gè)面到與無(wú)窮遠(yuǎn)物體共軛的近軸像面的Z軸距離。
Ged } qXn 基面
x#hSN|'" 基面這一術(shù)語(yǔ)（有時(shí)也稱為基點(diǎn)）源于那些特定的共軛位置，在這些位置上物面與像面有確定的放大率。
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