近日，上海精測半導體技術有限公司取得一項名為“光學特性建模方法及裝置、光學參數(shù)測量方法”的專利，授權公告號為CN114963996B，授權公告日為2025年2月14日，申請日為2022年4月22日。

本發(fā)明提供了一種光學特性建模方法及裝置、光學參數(shù)測量方法，所述光學特性建模方法，包括：獲取周期性介質的特性參數(shù)，并基于所述特性參數(shù)和嚴格耦合波分析法構建第一耦合波方程組；所述周期性介質關于光束入射平面對稱；獲取電場的兩個正交分量或磁場的兩個正交分量的線性組合，并基于所述第一耦合波方程組和所述電場的兩個正交分量或所述磁場的兩個正交分量的線性組合構建第二耦合波方程組；根據(jù)所述周期性介質的對稱性簡化所述第二耦合波方程組；求解簡化后的所述第二耦合波方程組，得到理論光譜。本發(fā)明提高了光學建模的效率，以得到理論光譜。

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