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摘要 t;
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`/"TYR% ucyxvhH^- 在半導體工業(yè)中,晶片檢測系統(tǒng)被用來檢測晶片上的缺陷并找到它們的位置。為了確保微結(jié)構(gòu)所需的圖像分辨率,檢測系統(tǒng)通常使用高NA物鏡,并且工作在UV波長范圍內(nèi)。作為例子,我們建立了包括高NA聚焦和光與微結(jié)構(gòu)相互作用的完整晶片檢測系統(tǒng)的模型,并演示了成像過程。 ^"l4 xmbkn}@A 任務(wù)描述 syMB~g hMdsR,Iq
h T4fKc7P tlc&Wx 微結(jié)構(gòu)晶圓 -v`;^X ;+cZS=
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xCGvLvFn evq*&.6\ 通過在堆棧中定義適當形狀的表面和介質(zhì)來模擬諸如在晶片上使用的周期性結(jié)構(gòu)的柵格結(jié)構(gòu)。然后,該堆棧可以導入到各種不同的組件中,具體取決于預期用途。在這種情況下,我們將堆棧加載到一般光學設(shè)置中的一個光柵組件中,以便模擬整個系統(tǒng)。有關(guān)詳細信息,請參閱:用于通用光學系統(tǒng)的光柵元件 7R ;! Drc\$<9c@ 微結(jié)構(gòu)晶片的角度響應(yīng) ?NJ\l5' j$BM$q/c
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AS~O*(po %*zgN[/w 該光柵組件使用傅里葉模態(tài)法(FMM),也稱為嚴格耦合波分析(RCWA),其運作在k域中。當入射大NA光束時,需要考慮在k域中有足夠數(shù)量的采樣點來解決角度敏感效應(yīng)。在光柵組件的求解器區(qū)域中,用戶可以輕松地調(diào)整此參數(shù),以確保快速而準確的模擬。 S&FMFXF@ ur"ckuG!9 大NA物鏡 /=i^Bgh4 1jO/"d.8n
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0Kq\ oMn 8nW#Q<s Lens System Component允許輕松定義由光滑表面和均勻、各向同性介質(zhì)的交替序列組成的組件。在界面和材料方面,可以從內(nèi)置目錄中選擇現(xiàn)成的條目,也可以定制自己的條目,以實現(xiàn)最大的靈活性。 weKwBw :(N3s9:vz 通用探測器和探測器插件 "2$C_aE %3|0_
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