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高NA物鏡的深聚焦能夠產(chǎn)生更小的PSF（點(diǎn)擴(kuò)展函數(shù)），對(duì)于高分辨率顯微鏡系統(tǒng)至關(guān)重要。在許多其他顯微鏡系統(tǒng)中，如浸入式顯微鏡使用蓋玻片將浸沒液體和樣本分開。這可能會(huì)使焦平面上的PSF失真。 我們證明在蓋玻片后面不對(duì)稱的PSF被進(jìn)一步拉長(zhǎng)。 此外，廣泛用于數(shù)十納米分辨率的STED（受激發(fā)射損耗）顯微鏡則需要消耗環(huán)形的PSF。遵循P.Török和P.R.T Monro提出的方法，我們對(duì)高斯-拉格勒光束的深聚焦進(jìn)行建模。 演示了如何產(chǎn)生環(huán)形PSF。 u~}%1 Qi:j)uDW 用高NA浸入式顯微鏡進(jìn)行深聚焦 ttj2b$M,
4#h ?Wga
 @H+~2;B, y\Dn^ 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析蓋玻片的界面對(duì)PSF的影響。 以完全矢量的方式演示并分析了蓋玻片后面的焦點(diǎn)變形。 $3
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