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高NA物鏡的深聚焦能夠產(chǎn)生更小的PSF(點擴展函數(shù)),對于高分辨率顯微鏡系統(tǒng)至關(guān)重要。在許多其他顯微鏡系統(tǒng)中,如浸入式顯微鏡使用蓋玻片將浸沒液體和樣本分開。這可能會使焦平面上的PSF失真。 我們證明在蓋玻片后面不對稱的PSF被進一步拉長。 此外,廣泛用于數(shù)十納米分辨率的STED(受激發(fā)射損耗)顯微鏡則需要消耗環(huán)形的PSF。遵循P.Török和P.R.T Monro提出的方法,我們對高斯-拉格勒光束的深聚焦進行建模。 演示了如何產(chǎn)生環(huán)形PSF。 /o}0oo5B ,]>`guDV 用高NA浸入式顯微鏡進行深聚焦 sEgeS9a{ }.Na{]<gh
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_]6&PZXk >uqS 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析蓋玻片的界面對PSF的影響。 以完全矢量的方式演示并分析了蓋玻片后面的焦點變形。 2+r
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