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    [技術]泰伯(TALBOT)光刻機 [復制鏈接]

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    作為最著名的衍射效應之一,泰伯(Talbot)效應可以用于光刻技術中以制造周期性納米結構。繼I.-H. Lee等人,我們在六邊形網(wǎng)格上構造了一個圓錐形光柵掩膜版,并以深度方式模擬了Talbot圖像的生成。 特別是,由于光刻過程中使用的紫外光是非偏振的,因此我們在示例中演示了如何為VirtualLab Fusion中的光柵模擬建模非偏振光。 omu )s '8  
    i U"2uLgb  
    圓錐形相位掩模的Talbot圖像 }ebu@)r  
    >}H3V]  
    在VirtualLab Fusion中對帶有圓錐體的相位掩模版進行了建模。檢測到不同的Talbot圖像,以使柱形圖案位于主像平面中,而孔圖案出現(xiàn)在次像平面中。 yt+d f0l  
    jCp^CNbA  
    用于光柵仿真的非偏振光–實例討論 Wd>gOE  
    Ci9]#)"c  
    示范了在VirtualLab Fusion的光柵仿真建模中,如何以兩個正交偏振態(tài)的平均值建模非偏振光的影響。 8{4SaT.-Rm  
    )`5=6i  
     
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