作為最著名的衍射效應(yīng)之一，泰伯(Talbot)效應(yīng)可以用于光刻技術(shù)中以制造周期性納米結(jié)構(gòu)。繼I.-H. Lee等人，我們?cè)诹呅尉W(wǎng)格上構(gòu)造了一個(gè)圓錐形光柵掩膜版，并以深度方式模擬了Talbot圖像的生成。 特別是，由于光刻過(guò)程中使用的紫外光是非偏振的，因此我們?cè)谑纠醒菔玖巳绾螢?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=VirtualLab',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_8">VirtualLab Fusion中的光柵模擬建模非偏振光。
cPPE8}PVH kbI:}b7H 圓錐形相位掩模的Talbot圖像 s~Ni\ SF
_E{SGbCCi 在VirtualLab Fusion中對(duì)帶有圓錐體的相位掩模版進(jìn)行了建模。檢測(cè)到不同的Talbot圖像，以使柱形圖案位于主像平面中，而孔圖案出現(xiàn)在次像平面中。 |GA4fFE=
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