上海光機所提出類液體超滑介電表面新策略助力提升光電薄膜器件性能日,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所高功率激光元件技術(shù)與工程部研究團(tuán)隊,在光電薄膜器件的界面工程領(lǐng)域取得重要進(jìn)展。相關(guān)成果以“Liquid-like slippery dielectric surfaces boosting electrical performance of organic field-effect transistors”為題,發(fā)表于Applied Surface Science。 場效應(yīng)晶體管(FET)型光探測器,是柔性電子與神經(jīng)形態(tài)計算等前沿技術(shù)的關(guān)鍵器件,其界面特性嚴(yán)重影響器件電性能。傳統(tǒng)界面工程使用十八烷基三氯硅烷(ODTS/OTS)分子修飾介電層表面,只聚焦其高靜態(tài)疏水性,而忽略了動態(tài)潤濕性對上層半導(dǎo)體薄膜的生長與電荷傳輸?shù)挠绊懀瑢?dǎo)致領(lǐng)域內(nèi)半導(dǎo)體薄膜質(zhì)量和器件電性能提升空間受限。 本研究創(chuàng)新性地將類液體超滑表面——一類具有超低接觸角遲滯的特殊超潤濕界面應(yīng)用于FET器件界面修飾中,替代傳統(tǒng)的OTS修飾層,顯著提升了器件的載流子遷移率,開辟了界面調(diào)控新思路。研究系統(tǒng)探索了類液體超滑表面對Ph-BTBT-12有機半導(dǎo)體薄膜生長與器件性能的調(diào)控作用。研究結(jié)果表明,超滑表面不僅具備高靜態(tài)疏水性,更因其優(yōu)異的滑動性能(動態(tài)潤濕性),顯著促進(jìn)了鍍膜過程中有機半導(dǎo)體分子的有序堆疊,誘導(dǎo)形成大尺寸、高度取向的晶態(tài)區(qū)域,提升了半導(dǎo)體薄膜層質(zhì)量(圖1)。經(jīng)熱退火后,發(fā)生SmE相液晶到晶體的相變,進(jìn)一步提升半導(dǎo)體層的有序度以及器件的載流子遷移率(圖2)。其中一種超滑表面修飾的OFET器件遷移率達(dá)3.90 cm2·V–1·s–1,幾乎是傳統(tǒng)OTS修飾器件的三倍。值得注意的是,即便未經(jīng)熱退火,超滑表面修飾的器件遷移率(2.54 cm2·V–1·s–1)仍顯著優(yōu)于OTS處理器件熱退火后的遷移率(1.44 cm2·V–1·s–1)。該研究揭示了表面動態(tài)潤濕性在調(diào)控有機半導(dǎo)體薄膜形貌與晶體結(jié)構(gòu)中的關(guān)鍵作用,為高性能半導(dǎo)體器件的界面設(shè)計提供了新思路。 圖1.(a)表面動態(tài)潤濕性能,(b)上層Ph-BTBT-12半導(dǎo)體分子的自組裝行為(上:使用類液體超滑表面;下:使用OTS普通疏水表面),以及(c)半導(dǎo)體分子的層層自組裝截面高度圖 圖2.Ph-BTBT-12半導(dǎo)體分子在超滑表面的(a)組裝機理;(b)熱退火相變行為(左:XRR曲線;右:相變示意圖) 該工作得到了國家自然科學(xué)基金等項目的支持。 原文鏈接:https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0169433225013029 |
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