隨著技術(shù)的發(fā)展,
LED的效率有了非常大的進(jìn)步。在不久的未來(lái)LED會(huì)代替現(xiàn)有的
照明燈泡。近幾年人們制造LED晶粒/芯片過(guò)程中首先在襯底上制作氮化鎵(GaN)基的晶圓(
外延片),晶圓所需的材料源(碳化硅SiC)和各種高純的氣體如氫氣H2或氬氣Ar等惰性氣體作為載體之后,按照制程的要求就可以逐步把晶圓做好。接下來(lái)是對(duì)LED-PN結(jié)的兩個(gè)電極進(jìn)行加工,并對(duì)LED毛片進(jìn)行減薄,劃片。然后對(duì)毛片進(jìn)行測(cè)試和分選,就可以得到所需的LED晶粒。具體的工藝做法,不作詳細(xì)的說(shuō)明。
S<#>g
s4 ecDni>W 下面簡(jiǎn)單介紹一下LED芯片生產(chǎn)流程圖:
d]{wZ#x 總的來(lái)說(shuō),LED制作流程分為兩大部分:
j*+[=X/ 8yij=T* 首先在襯低上制作氮化鎵(GaN)基的晶圓,這個(gè)過(guò)程主要是在
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積晶圓爐(MOCVD)中完成的。準(zhǔn)備好制作GaN基晶圓所需的材料源和各種高純的氣體之后,按照工藝的要求就可以逐步把外延片做好。常用的襯底主要有藍(lán)寶石、碳化硅和硅襯底,還有GaAs、AlN、ZnO等材料。
r"sK@ K4~z@.
G6* MOCVD是利用氣相反應(yīng)物(前驅(qū)物)及Ⅲ族的有機(jī)金屬和Ⅴ族的NH3在襯底表面進(jìn)行反應(yīng),將所需的產(chǎn)物沉積在襯底表面。通過(guò)控制溫度、壓力、反應(yīng)物濃度和種類(lèi)比例,從而控制
鍍膜成分、晶相等質(zhì)量。MOCVD外延爐是制作LED外延片最常用的設(shè)備。
iZ}Afj I
.jB^ 然后是對(duì)LED PN結(jié)的兩個(gè)電極進(jìn)行加工,電極加工也是制作LED芯片的關(guān)鍵工序,包括清洗、蒸鍍、黃光、化學(xué)蝕刻、熔合、研磨;然后對(duì)LED毛片進(jìn)行劃片、測(cè)試和分選,就可以得到所需的LED芯片。如果
芯片清洗不夠干凈,蒸鍍系統(tǒng)不正常,會(huì)導(dǎo)致蒸鍍出來(lái)的金屬層(指蝕刻后的電極)會(huì)有脫落,金屬層外觀(guān)變色,金泡等異常。
W/DSj
泰顺县|
齐河县|
博客|
英超|
修水县|
永丰县|
兰坪|
灵石县|
丰城市|
雅安市|
光泽县|
新建县|
安乡县|
宜昌市|
古蔺县|
长兴县|
株洲县|
嘉义市|
波密县|
浦江县|
吉首市|
天峻县|
方城县|
柘荣县|
克拉玛依市|
随州市|
高唐县|
肃宁县|
文登市|
来安县|
沙洋县|
彭阳县|
新乡县|
芒康县|
永兴县|
浦江县|
广汉市|
南汇区|
苗栗市|
秦皇岛市|
汤阴县|