薄膜厚度和消光系數(shù)的透射光譜測量方法摘要：本文提出薄膜厚度和消光系數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)曲線測量法，論述了方法的測量原理和測量程序。該法的膜厚的測量范圍為~80nm到2000nm；膜厚的測量誤差大約為13nm。 =jpRv<X|,
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關(guān)鍵詞：薄膜、厚度、消光 <^Y #q
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自潔凈玻璃的自潔凈性能、低幅射玻璃的低幅射性能都與其膜層的厚度、折射率和消光系數(shù)有著密切的關(guān)系[1]。近代微電子學(xué)裝置，如成像傳感器、太陽能電池、薄膜器件等都需要這些參數(shù)[2] 。這些參數(shù)的數(shù)據(jù)是薄膜材料、薄膜器件設(shè)計(jì)的必不可少的基礎(chǔ)性數(shù)據(jù)。 ]5:[6;w S
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通常都是單獨(dú)測量這些參數(shù)，薄膜厚度用原子力顯微鏡、石英震蕩器、臺(tái)階儀、橢偏儀、干涉法來測量。薄膜折射率的測量就比較麻煩，因?yàn)樗?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=波長',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_6">波長的函數(shù)，它可以用基于干涉、反射原理的方法測量。從薄膜的吸收譜就可測量其消光系數(shù)。顯然，取得這些數(shù)據(jù)是很麻煩、很費(fèi)時(shí)、成本也很高，特別是對(duì)于納米級(jí)薄膜。 #nft{AN
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2000年，美國Princeton等大學(xué)提出[2] ，從物理角度建立透射光譜模型，調(diào)整模型中的未知的參數(shù)，即薄膜厚度、折射率、消光系數(shù)，使透射光譜的理論曲線同實(shí)驗(yàn)曲線重合，這就同時(shí)取得薄膜的厚度、折射率、消光系數(shù)等數(shù)據(jù)。他們用這種方法同時(shí)測量了“玻璃-薄膜” 系統(tǒng)的薄膜的厚度、折射率、消光系數(shù)等數(shù)據(jù)。顯然，這是取得這些數(shù)據(jù)的簡便、快速、低成本的方法，是這領(lǐng)域的一個(gè)發(fā)展趨勢。 uh#E^~5S
