《現(xiàn)代
光學(xué)薄膜技術(shù)》第一篇主要介紹光學(xué)薄膜特征的理論計(jì)算、光學(xué)多層膜的設(shè)計(jì)理論和技術(shù),由唐晉發(fā)教授編寫。第二篇主人介紹光一膜的制造技術(shù),包括以物理氣相淀積技術(shù)為代表的成膜技術(shù),涵蓋真空設(shè)備、薄膜
材料、制備
參數(shù)控制技術(shù)、薄膜厚度監(jiān)控技術(shù)、膜厚均勻性以及制備參數(shù)對(duì)薄膜微觀
結(jié)構(gòu)影響等。第三篇主要介紹薄膜光學(xué)特性與光學(xué)常數(shù)的檢測技術(shù)、薄膜機(jī)械性能的評(píng)價(jià)技術(shù)等。由于光學(xué)薄膜技術(shù)又是一門交叉性很強(qiáng)的學(xué)科,涉及到光電技術(shù)、計(jì)算機(jī)、真空技術(shù)、材料科學(xué)、自動(dòng)控制技術(shù)等領(lǐng)域。
X%4uShM 光學(xué)薄膜是一門綜合性非常強(qiáng)的工程技術(shù)科學(xué)。它的理論基礎(chǔ)是電磁場理論和麥克斯韋方程,涉及光在傳播過程中,通過分層介質(zhì)的反射、透射和偏振特性等。
66^1&D" 為了滿足部分來自不同領(lǐng)域的光學(xué)薄膜工作者學(xué)習(xí)《現(xiàn)代光學(xué)薄膜技術(shù)》的需要,增加了一個(gè)附錄,主要介紹幾個(gè)數(shù)學(xué)物理基礎(chǔ)理論。
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V6r 第一篇光學(xué)多層膜設(shè)計(jì)
[}9XHhY1O= 第1章光學(xué)薄膜特性的理論計(jì)算
hSx+{4PZ 1.1單色平面電磁波
F653[[eQ 1.2平面電磁波在單一界布的反射和折射
<iXS0k 1.3光學(xué)薄膜特性的理論計(jì)算
D_yY0rRM 1.4光學(xué)多層膜內(nèi)的電場強(qiáng)度分布
/+<%,c$n 習(xí)題
:]u}xDv3 第2章光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)理論
K+h9bI/Sf 2.1矢量作圖法
7kX7\[zN 2.2有效界面法
}> !"SU:d 2.3對(duì)稱膜系的等效層
zgq_0w~X 2.4導(dǎo)納圖解技術(shù)
@ V7ooo! 習(xí)題
ZyS;+" 第3章光學(xué)薄膜
系統(tǒng)的設(shè)計(jì)
!ulLGmUn 3.1減反射膜
(jo(bbpj 3.2分束鏡
pE(<XD3Q 3.3高反射膜
I7q?V1fu4 3.4干涉截止濾光片
ld!6|~0U 3.5帶通濾光片
~P]HG;$?n 3.6特殊膜系
w}U5dM` 習(xí)題
o%4&1^ Vg 參考文獻(xiàn)
ohc/.5Kl 第二篇薄膜制備技術(shù)和微結(jié)構(gòu)特性
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