《
真空鍍膜技術(shù)》共分10章,
系統(tǒng)地闡述了真空鍍膜技術(shù)的基本慨念和基礎(chǔ)理論、各種
薄膜制備技術(shù)、設(shè)備及工藝、真空卷繞鍍膜技術(shù)、ITO導(dǎo)電
玻璃真空鍍膜工藝,尤其重點(diǎn)介紹了一些近年來新出現(xiàn)的鍍膜方法與技術(shù),如反應(yīng)磁控濺射鍍膜技術(shù)、中頻磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜技術(shù)等;還詳細(xì)介紹了薄膜沉積及膜厚的監(jiān)控與測量以及表面與薄膜分析檢測技術(shù)等方面的內(nèi)容。
4o2C=?@( 《真空鍍膜技術(shù)》具有很強(qiáng)的實(shí)用性,適合于真空鍍膜行業(yè)、薄膜與表面應(yīng)用、
材料工程、應(yīng)用物理以及與真空鍍膜技術(shù)有關(guān)的行業(yè)從事研究、設(shè)計(jì)、設(shè)備生產(chǎn)操作與維護(hù)的技術(shù)人員,也適用與真空鍍膜技術(shù)相關(guān)的實(shí)驗(yàn)研究人員和學(xué)生,還可用作大專院校相關(guān)專業(yè)師生的教材及參考書。
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`Sd< 1 薄膜與表面技術(shù)基礎(chǔ)理論
.yF7{/ 1.1 概述
s?5(E} 1.2 固體表面介紹
c>r0N[ 1.2.1 固體材料
S-:l
60. 1.2.2 固體表面與界面的基本概念
:U<`iJwY 1.2.3 固體表面與界面的區(qū)別
ZuF-$]oL& 1.3 表面晶體學(xué)
X(#G6KeZFZ 1.3.1 金屬薄膜的晶體
結(jié)構(gòu) W%.Kr-[?`o 1.3.2 理想的表面結(jié)構(gòu)
'
7>V4\" 1.3.3 表面與體內(nèi)的差異
7@rrAs-"Z 1.3.4 青潔表面結(jié)構(gòu)
Jh[fFg] 1.3.5 實(shí)際表面結(jié)構(gòu)
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