Zemax光學設計從入門到精通	京東雙十一活動紅包購物券領取	Zemax光學設計實踐基礎(陳家璧)	ZEMAX光學系統(tǒng)設計實戰(zhàn)
訊技光電:VirtualLab Fusion獨家供應商	光學設計與光學元件	CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape	計算光學帶來的成像革命

發(fā)帖回復

2808閱讀
0回復

[分享]真空蒸鍍優(yōu)點 [復制鏈接]

上一主題下一主題

離線cliffyang

實習生

發(fā)帖: 4

光幣: 9

光券: 0

只看樓主正序閱讀樓主發(fā)表于: 2011-01-26

關鍵詞：半導體薄膜真空蒸鍍

真空蒸鍍就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。在真空條件下成膜可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與基板距離較遠和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低。


	關閉您還沒有登錄，快捷通道只有在登錄后才能使用。立即登錄還沒有帳號？趕緊注冊一個

帖子

[分享]真空蒸鍍優(yōu)點 [復制鏈接]